新华网北京4月3日电由世界知识产权组织主办、我国政府承办的世界知识产权领导人会议将于4月24日至26日
在北京召开。届时，将有外国国家元首和政府领导人、部长级代表团、世界知名企业负责人及产业界高层决策者参加会议。欢
迎中外记者前来采访。
会议将在北京国际会议中心设立新闻中心，负责接待和安排中外记者采访会议。凡要求采访会议的中央新闻单位和内
地地方新闻单位的记者向会议新闻中心提出申请，香港记者
向中央人民政府驻香港特别行政区联络办公室提出申请，澳门记者
向中央人民政府驻澳门特别行政区联络办公室提出申请，台湾记者向国务院台湾事务办公室提出申请，香港、澳门常驻北京记
者和台湾在京驻点记者向中华全国新闻工作者协会提出申请，外国驻华记者向外交部新闻司提出申请。
境外外国记者可向世界知识产权组织报名，也可通过中华人民共和国驻外使领馆、外交部驻香港特派员公署、外交部
驻澳门特派员公署提出申请。香港特别行政区记者、澳门特别行政区记者和台湾记者、外国记者在提出申请时，需要本人所代
表的新闻机构证明函或确认本人是记者的身份证件。
记者报名表可通过世界知识产权领导人会议网站下载(网址：www.wiposummit.org)。受理采访
报名的时间自2003年4月2日至18日，报名咨询电话：84979771、84979774。(完)
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