新闻中心新浪首页 > 新闻中心 > 国内新闻 > 正文

全球顶尖摄影亮相沙区文化馆


http://www.sina.com.cn 2006年04月27日05:03 重庆商报

  本报讯(记者 纪文伶 实习生 柯露)昨日,第十一届中国国际摄影艺术展巡展在沙区文化馆新展览厅开展,展览将一直持续至5月7日,该展览照片是从全球68个国家,4536名摄影家的35000多幅作品中选出来的,作品囊括社会生活和民俗风情,自然风光和环境生态,建筑、人像等三大类。


爱问(iAsk.com)

收藏此页】【 】【下载点点通】【打印】【关闭
 
 


新闻中心意见反馈留言板 电话:010-82612286   欢迎批评指正

新浪简介 | About Sina | 广告服务 | 招聘信息 | 网站律师 | SINA English | 产品答疑

Copyright © 1996-2006 SINA Corporation, All Rights Reserved

新浪公司 版权所有