全球顶尖摄影亮相沙区文化馆 | |||||||||
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http://www.sina.com.cn 2006年04月27日05:03 重庆商报 | |||||||||
本报讯(记者 纪文伶 实习生 柯露)昨日,第十一届中国国际摄影艺术展巡展在沙区文化馆新展览厅开展,展览将一直持续至5月7日,该展览照片是从全球68个国家,4536名摄影家的35000多幅作品中选出来的,作品囊括社会生活和民俗风情,自然风光和环境生态,建筑、人像等三大类。
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