我国集成电路核心装备研发与产业化取得重大突破 | |||||||||
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http://www.sina.com.cn 2006年09月28日17:23 中国广播网 | |||||||||
中广网北京9月28日消息(记者李仁主 实习记者李何子)国家863计划集成电路制造装备重大专项“100nm 高密度等离子体刻蚀机和大角度离子注入机”28日在北京通过了科技部与北京市组织的项目验收并签订了批量采购合同。这是我国国产主流集成电路核心设备产品第一次实现销售,标志着我国集成电路制造核心装备研发取得了重大突破。 集成电路装备业已成为高技术装备产业的典型代表。中国集成电路制造业的蓬勃发
面对急速增长的市场,我国的集成电路制装备制造业无论从生产规模、研发水平、投资强度以及人才聚集等方面都还有存在着很大的差距,尚未形成可以支撑自身可持续发展的产业规模。这一状况导致我国已建和在建的8?家陨霞?成电路制造厂的核心设备完全依赖于进口设备。“十五”期间,科技部根据国家重大战略需求,在863计划中设立了“集成电路制造装备”重大专项,重点研制集成电路制造设备的部分核心设备。由北京市组织实施的“100nm 8?级嗑Ч杩淌椿?和大倾角离子注入机”完成了产品研制,并按照国际化标准在大生产线进行了近一年的检验考核。这两种设备的技术水平基本与我国集成电路制造业主流技术水平更新同步,使未来2、3年我国集成电路制造业从180nm向130nm和90nm升级时可以使用上国产装备,有助于扭转我国集成电路制造装备受制于人的局面,对我国集成电路制造装备的自主创新能力和核心竞争力具有重要的战略意义。 |