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台证实松绑晶圆厂赴大陆投资 门槛放宽为0.18微米


http://www.sina.com.cn 2005年11月07日15:38 中国新闻网

  中新网11月7日电台“经济部”官员7日上午低调证实官方将于今年12月中旬,开放第2与第3座8吋晶圆厂赴大陆投资,而制程技术的门槛也将一并由目前的0.25微米,进一步放宽为0.18微米,其中包括已到上海投资设厂的台积电也适用新的规定。

  据凤凰卫视报道,台湾一家媒体7日指出,台“经济部”审议将近一年的第2与第3座8吋晶圆厂赴大陆投资案,将于今年12月中旬通过,而且在晶圆制程的技术门槛,也会由目前

比较低阶的0.25微米放宽到比较高阶的0.18微米。对此,台“经济部”官员7日上午在“立法院”做出低调回应。

  “陆委会”也表示,未来也不排除更进一步开放更高阶的晶圆制程赴大陆投资,或是开放IC封测厂到大陆设厂。“陆委会”官员还指出,台积电是在2004年5月经官方批准后,第一家将8吋晶圆厂转赴大陆投资,而未来新的制程一旦通过包括台积电都适用。(杨明哲)


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