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我国专利法需解决三大不足


http://www.sina.com.cn 2006年10月26日01:00 石狮日报

  据新华社北京10月25日电国家知识产权局条法司有关负责人25日在此间举行的“中国———蒙古国知识产权法律制度研讨会”上指出,现行专利法主要面临着三方面需要解决的问题。

  三个方面包括:与发明创造有关的权利归属关系需要进一步明确,以更为充分地发挥专利制度对创新活动的激励作用;实用新型和外观设计专利申请和授权的数量虽然不少,
但质量需要提高,权利不够稳定,在一定程度上影响了专利制度的整体运行效果;对专利权的行政和司法保护仍存在不够完善之处,需要一方面强化对专利权的保护,为权利人提供更为及时有效的保护,另一方面维护公众的合法权益,合理平衡权利人与社会公众的利益。


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