1100天造就集成电路“中国芯”

　　研发100纳米大角度离子注入机时，科研人员要在真空模拟系统中，反复进行100纳米大角度离子注入机部件的密闭性测试，直到达到密闭要求为止。本报记者戴冰摄RJ193

　　我国“十五”国家863重大专项——100纳米刻蚀机与离子注入机设备9月底研发成功

　　困局

　　西方国家封锁技术垂涎中国市场

　　集成电路装备业是高技术装备产业的典型代表。我国集成电路制造业的蓬勃发展为集成电路制造装备带来了巨大的市场空间。据预测，到2010年，我国集成电路产业投资累计将达到3500亿元，其中大部分将用于集成电路制造装备投资。这一趋势使得中国市场成为全球集成电路制造装备业争夺的焦点。

　　中国电子科技集团公司第48研究所所长唐景庭介绍说，集成电路制造专用设备是集成电路产业的核心，是衡量一个国家和地区集成电路产业水平的标志。西方发达国家掌握了集成电路设备技术的制高点，同时对我国实施技术封锁和禁运。“九五”末期，我国集成电路装备的水平为6英寸0.5微米，这也是实验室状态下的技术水平，与当时国外领先的8英寸100纳米生产水平相差5个技术代，国内所有8英寸以上生产线没有一台国产设备。

　　创新

　　3年走完发达国家15年的研发历程

　　据介绍，集成电路制造装备的核心设备大约有20多件，其中，芯片制造六大装备中的等离子刻蚀机与大角度离子注入机是其中核心的核心。

　　2001年4月，国务院批准科技部把超大规模集成电路制造装备列为重点研究内容。2002年11月，科技部同意北京市政府启动“100纳米高密度等离子刻蚀机与大角度离子注入机”项目。在原北京市经委的积极组织协调下，北京电子控股公司联合清华大学、北京大学、中科院、七星集团等股东组建北方微电子公司，承担等离子刻蚀机的研发任务。中国电子科技集团联合48所、45所组建北京中科信电子装备公司，承担离子注入机的研发任务。本项目总投资5亿元人民币，由国家、地方、企业三方共同投资。

　　这两种设备的研制成功，实现了我国高端集成电路核心设备零的突破，技术水平跨越5代。国外离子注入机技术发展，从500纳米跨越到100纳米大角度用了10至15年，而我国仅仅用了3年的时间。3年，在1100多个日日夜夜里，依靠一群平均年龄不到35岁的技术骨干，走完了发达国家15年才完成的研发历程。

　　变化

　　北京成为我国集成电路装备制造业龙头

　　在此次科技攻关中，北京北方微电子公司共申报并受理专利147项，其中发明专利135项，拥有软件版权6项；注入机业主单位——北京中科信公司共申请了各项专利137项，已颁发受理通知书109项，其中核心发明专利26项。此次研发还在世界范围内组织了一批优秀人才，建立了两支具有国际水平的研发团队。培育了集成电路装备的骨干企业，北京地区正在成为我国集成电路装备制造业的龙头。同时，12英寸的刻蚀机和离子注入机的研发也取得较大进展，预计近期可进行在线测试。

　　唐景庭说，国外每台刻蚀机、离子注入机的价格约300万美元，一条完整的12英寸集成电路生产线设备完全进口，需要投资10亿美元左右，如果能够采用国产设备，整线投资约可降低3亿美元。由于芯片生产企业降低了生产成本，同时相应的提高了制造芯片的水平，可导致企业产品的价格降低，使消费者买到更便宜的、更先进的电子产品。而且离子注入机整机国产化率已经达到70％，生产商又是本土企业，相对于国外同类设备来说，其成本低廉，设备价格也要低得多。这样，半导体制造商采购了国产设备，同时也获得本土公司优质的售后服务，就会大大降低设备折旧和生产营运成本，大大增强获利能力。

　　访谈

　　政府组织协调保证重大科研攻关成功

　　中科院微电子研究所常务副所长叶甜春认为，此次重大科研的成功，还体现了政府决策和协调在其中的重大作用。

　　2002年6月6日，当时担任北京市市长的刘淇陪同科技部部长徐冠华到北京市集成电路装备骨干企业——北京建中机器厂(现为七星集团公司)进行考察。刘淇代表北京市政府表示，北京市将在国家科技部的支持下，大力发展集成电路装备产业。随后，该项目获得批准。在项目攻关过程中，国家科技部和北京市政府密切配合，确保专项资金及时到位。

　　北京市工业促进局电子信息产业发展处处长梁胜介绍说，这种重大项目在短时间内完成，也是科研体制创新的体现。在重大项目的科研方面，过去是专家出题、做题和判题，现在是产业出题，企业组织专家做题，市场应用判题。北京市政府不仅制定攻关目标，而且积极跟踪，针对开发过程中关键环节加大协调服务力度。为了该产品的研发和能够在生产线上做实际验证，市工业促进局多次组织与生产企业进行协调，最终保证了产品的性能。J159